分析高纯度化学试剂及其归类

纯净度远远高于优级纯的化学试剂叫做高纯度实验试剂。是在通用性实验试剂基本上发展壮大下去的，是为了更好地专业的应用目地而用独特方式生产制造的纯净度高的实验试剂。高纯度实验试剂操纵的是残渣项成分，标准实验试剂操纵的是主成分，标准实验试剂可以用规范溶液的配制，但高纯度实验试剂不可以用以规范溶液的配制（化合物金属氧化物以外）。
现阶段在国际性上也无统一的确立规格型号，在我国除对极少数商品制订了行业标准外，绝大多数高纯度实验试剂的检测标准还很不统一，在名字上也是有高纯度、超纯、特纯、光谱仪纯、电子器件纯等不一样称呼。一般以9来表明商品的纯净度。故在规格型号栏招标以2个9、3个9、4个9依此类推，依据这一标准可将高纯度化学物质分成：
残渣总成分不得超过1.5×10-2%，其纯净度为3.5个9（99.95）缩写为3.5N
残渣总成分不得超过1.0×10-2%，其纯净度为4个9（99.99）缩写为4.0N
残渣总成分不得超过1.0×10-3%，其纯净度为5个9（99.999）缩写为5N
对高纯度实验试剂或高纯度原素纯净度或残渣成分的检测，一般常见原子吸收光谱、分子光谱分析法、色谱仪、质谱分析色度化学成分分析等方式 开展测量。其阳离子规格型号正常情况下参考实验试剂优等品规范，沒有优等品规范的商品由制造企业自主制订。依据应用领域不一样，把高纯度实验试剂又分为几类：
一般离纯化学试剂：
就是指一些高纯度化合物金属材料、金属氧化物、金属材料酸盐等，常见于核能工业生产原材料、电子工业材料、半导体材料基本资料等，金属单质的金属氧化物、用于配置标液和做为标准物质，此类实验试剂常规定成分在4N-6N中间。
洁净电子器件纯实验试剂：
洁净高纯度实验试剂是电子器件（IC）生产制造工序中的专用型化工品，用以硅片清洗、光刻技术、浸蚀工艺流程中。对这类高纯度实验试剂中可溶残渣和固体颗粒规定十分严苛，为融入IC处理速度不断提升的要求，国际性上半导体材料行业协会（SemiconductorIndustryAssociation）近期发布Semic7(合适0.8-1.2μm生产工艺)和Semic8(合适于0.2-0.6μm生产工艺)等级的实验试剂检测标准。在我国在原来MOS级、BV-I级实验试剂的基本上，又制订出BV-II级和BV-III级实验试剂规范（等同于Semic7）。